美國在出口管制上又有新的舉措。

據(jù)報道，1月28日，美國、荷蘭和日本就限制向中國出口先進芯片制造設(shè)備達成協(xié)議，其中將會涉及ASML、尼康、東京電子等企業(yè)的設(shè)備產(chǎn)品。

虎嗅向半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士、從事出口管制方面的律師求證，證實了該消息。迄今為止，美國、日本和荷蘭政府尚未對具體細節(jié)進行公布。

1月30日，在光刻機巨頭阿斯麥（NASDAQ:ASML）向虎嗅提供的一份官方聲明中確認，幾國政府間就達成一項側(cè)重于先進制程芯片制造技術(shù)的協(xié)議有了最新進展，其中將包括但不限于先進制程的光刻系統(tǒng)。

ASML的聲明中提及，在這項協(xié)議生效之前，必須詳細說明并落實到立法中，這需要時間。其在中國的業(yè)務(wù)以成熟制程為主。

目前，尚無法就細節(jié)以及新的出口管制規(guī)則對中期和長期財務(wù)、組織和全球行業(yè)的影響發(fā)表任何聲明。基于政府官員的聲明、立法進程時間表、不同條款的生效日期，加之目前的市場形勢，ASML預(yù)計這些措施不會對其發(fā)布的2023年預(yù)期產(chǎn)生實質(zhì)性影響。

在這項新的協(xié)議中，最大的變化莫過于，對華的出口管制，從原來的EUV光刻機擴展到浸潤式光刻機（DUV）。

這項新的協(xié)議將會對中國半導(dǎo)體產(chǎn)生什么影響？又該如何應(yīng)對？

可能發(fā)生的新變化

ASML的光刻機有四大類，一種是EUV，也就是極紫外光刻機，用于生產(chǎn)7nm制程及以下的芯片；第二類是用于生產(chǎn)制程在7nm及以下制程的最新型浸潤式光刻機；第三種是用于生產(chǎn)制程在40nm／28nm／14nm／7nm的浸潤式光刻機；第四種就是生產(chǎn)55nm及以上制程的干式光刻機。

業(yè)界證實，目前對于第一類和第二類的光刻機大概率會被禁運，成熟制程的芯片生產(chǎn)不會受到影響。

目前，除了ASML，日本尼康也能夠量產(chǎn)用于生產(chǎn)7nm及以下制程的浸潤式光刻機。

一位半導(dǎo)體研發(fā)專家表示，如果浸潤式光刻機禁運，那么對于已有機臺也會受到影響，主要的影響集中在光源以及關(guān)鍵零件的更換上，最新型號的浸潤式光刻機能夠提供更大制程的寬度以及提升良率。

美國的供應(yīng)鏈話語權(quán)

多位業(yè)內(nèi)人士都表達了一個觀點，如今已很難用正常的商業(yè)手段去看待美國的出口管制，而已經(jīng)是大國博弈的視角。這一點，從這一次美國是直接與日本和荷蘭政府談判，而不是與企業(yè)談判就可見一斑。

一直以來，美國通過技術(shù)、市場和金融控制的方式獲得在供應(yīng)鏈中的話語權(quán)，這也使得諸多半導(dǎo)體企業(yè)不得不順應(yīng)美國的要求。

如果細究ASML公司的股權(quán)結(jié)構(gòu)可以發(fā)現(xiàn)，有50%的股權(quán)資本控制來自美國。而拆解ASML光刻機后也會發(fā)現(xiàn)，其中的大部分關(guān)鍵零部件來自美國的供應(yīng)商。

根據(jù)李巍、李玙譯一篇刊登于《外交評論》的文章，《解析美國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)霸權(quán)：產(chǎn)業(yè)權(quán)力的政治經(jīng)濟學(xué)分析》中提及在阿斯邁的EUV光刻機中，有55%使用了美國的零部件。

而在技術(shù)上，美國也掌握了半導(dǎo)體技術(shù)鏈的主要環(huán)節(jié)。其在芯片制造設(shè)備、電子設(shè)計自動化（EDA）以及知識產(chǎn)權(quán)核（IP）等方面占據(jù)了絕對的優(yōu)勢地位。這使得整個半導(dǎo)體供應(yīng)鏈無法繞過美國順利運轉(zhuǎn)。

數(shù)據(jù)來源：彭博終端／《解析美國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)霸權(quán)：產(chǎn)業(yè)權(quán)力的政治經(jīng)濟學(xué)分析》

在金融控制上，“目前，共有88家注冊地點位于非美國本土的半導(dǎo)體企業(yè)通過間接托管和直接發(fā)行股票的方式在美國紐約證券交易所、納斯達克證券交易所上市，或通過美國場外交易市場籌集資金 。”上述文章中提及，“這些半導(dǎo)體企業(yè)在美國上市，意味著它們不僅要接受美國明面上的監(jiān)管規(guī)則，也要接受一些‘潛規(guī)則’”。

當(dāng)然，大國博弈始終是一個動態(tài)的過程，各國的聯(lián)盟也非鐵板一塊。在ASML的聲明中也表示，在這些規(guī)則最終被確認的同時，ASML將繼續(xù)與當(dāng)局溝通，告知任何擬議規(guī)則的潛在影響，以評估對全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的影響。

中國能怎么辦？

“如果用于生產(chǎn)7nm及以下制程的浸潤式光刻機被禁運，那么其他機型用于生產(chǎn)28nm／14nm制程的芯片問題都不大。”

上述半導(dǎo)體研發(fā)專家表示。而如果是最差的情況，所有浸潤式光刻機都被禁運的話，那么用干式光刻機生產(chǎn)55nm制程的芯片是沒有問題的，如果要生產(chǎn)40nm制程的芯片，使用雙重曝光技術(shù)，干式光刻機也可以完成生產(chǎn)。

“糾結(jié)在光刻機的制程我認為沒有意義。”一位在半導(dǎo)體界從業(yè)多年的高管表示，“我們更關(guān)注的是如何用現(xiàn)有的兵器，達到器件上的最優(yōu)。”也就是說，通過工藝、參數(shù)、架構(gòu)上的創(chuàng)新，達到更好的良率、性能和功耗。

中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會集成電路設(shè)計分會理事長魏少軍在12月29日“2022中國（深圳）集成電路峰會”的演講中也表達了類似的觀點，中國產(chǎn)業(yè)原來發(fā)展的重點比較多地放在聚焦很先進的科技工藝。

但到了后面，可能需要轉(zhuǎn)向那些對工藝和EDA工具不強敏感的芯片研發(fā)技術(shù)，同時更聚焦目標導(dǎo)向和問題導(dǎo)向，提升成熟工藝的性能、功耗和尺寸，這是在別人限制中國的前提下，所做的無奈之舉。

而新器件、新材料、新工藝和芯片架構(gòu)創(chuàng)新將是主要的發(fā)力方向。“之前人們把能做7nm設(shè)計作為高水平的標志，事實上，能夠用14nm、28nm做出7nm的性能，才是真正的高手。”魏少軍在演講上說。