在半導(dǎo)體行業(yè)，技術(shù)是核心競(jìng)爭(zhēng)力，美國(guó)公司在這方面領(lǐng)先，國(guó)內(nèi)公司這幾年來(lái)發(fā)展迅速，同時(shí)也有自己研發(fā)的核心技術(shù)，日前美國(guó)Lam公司就因侵犯中微半導(dǎo)體專(zhuān)利被二審敗訴。

據(jù)中微公司公眾號(hào)消息，公司在針對(duì)美商科林研發(fā)股份公司（Lam Research Corporation，簡(jiǎn)稱(chēng)“科林研發(fā)”）提起的侵犯商業(yè)秘密案中贏得二審勝訴。

在上海市高級(jí)人民法院2023年6月30日的終審判決中，法院命令科林研發(fā)銷(xiāo)毀其非法獲取的與中微公司等離子刻蝕機(jī)有關(guān)的一份技術(shù)文件和兩張照片。

法院還禁止科林研發(fā)及科林研發(fā)的兩名個(gè)人被告披露、使用或允許他人使用中微公司的專(zhuān)有的技術(shù)秘密。

法院還命令科林研發(fā)為其侵犯商業(yè)秘密向中微公司支付賠償金和法律費(fèi)用。

據(jù)了解，雙方的訴訟始于2010年12月，當(dāng)時(shí)中微海市第一中級(jí)人民法院就科林研發(fā)侵犯公司商業(yè)秘密案提起一審訴訟，并于2017年3月贏得一審訴訟。

之后上訴到上海市高級(jí)人民法院，如今歷經(jīng)6年時(shí)間，中微也贏得了二審判決。

在全球半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，美國(guó)應(yīng)用材料AMAT位列第一，荷蘭ASML位列第二，LAM排名第三，日本東京電子位列第四，美國(guó)KLA科磊排名第五，這五家廠商占據(jù)了全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)，部分領(lǐng)域還是壟斷性領(lǐng)先。