驅(qū)動中國消息，荷蘭阿斯麥ASML公司已經(jīng)優(yōu)先向美國英特爾公司交付其新型高數(shù)值孔徑的2nm極紫外光刻機。據(jù)悉，每臺新機器的成本超過3億美元，可幫助計算機芯片制造商生產(chǎn)更小、更快的半導(dǎo)體。

“耗時十年的開創(chuàng)性科學(xué)和系統(tǒng)工程值得鞠一躬！我們很高興也很自豪能將我們的第一臺高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機交付給Intel?！盇SML公司說道。

ASML官方社交媒體賬號發(fā)布了一張現(xiàn)場照片，照片中可以看到，光刻機的一部分被放在一個保護箱中，箱身綁著一圈紅絲帶，正準(zhǔn)備從其位于荷蘭埃因霍溫的總部發(fā)貨。高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機組裝起來比卡車還大，需要被分裝在250個單獨的板條箱中進行運輸，其中包括13個大型集裝箱。它們將從2026年或2027年起用于商業(yè)芯片制造。

公開資料顯示，NA數(shù)值孔徑是光刻機光學(xué)系統(tǒng)的重要指標(biāo)，直接決定了光刻的實際分辨率，以及最高能達到的工藝節(jié)點。ASML 9月份曾宣布，將在今年底發(fā)貨第一臺高數(shù)值孔徑EUV光刻機，型號Twinscan EXE:5000，可制造2nm工藝乃至更先進的芯片。