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Intel CEO談中國半導(dǎo)體現(xiàn)狀:現(xiàn)有工具最多生產(chǎn)7nm芯片 落后10年

來源:快科技 編輯:非小米 時間:2024-01-20 08:18人閱讀

快科技1月20日消息,據(jù)國外媒體報道稱,Intel CEO帕特-蓋爾辛格在達(dá)沃斯世界經(jīng)濟(jì)論壇上發(fā)言時斷言,由于美國對關(guān)鍵芯片制造部件的制裁,中國的半導(dǎo)體發(fā)展將比領(lǐng)先國家落后十年。

蓋爾辛格解釋說,中國現(xiàn)有的工具目前只能生產(chǎn)14nm和7nm芯片,而美國并沒有單獨(dú)阻止中國,而是聯(lián)合了盟友日本和荷蘭的合作。

相比之下,臺積電、三星和英特爾等公司正在準(zhǔn)備在未來幾年內(nèi)采用更先進(jìn)的工藝生產(chǎn)3nm、2nm甚至更精密的半導(dǎo)體。

預(yù)計臺積電的2nm芯片將應(yīng)用于2025年上市的iPhone 17。

按照蓋爾辛格的說法,數(shù)十年來的產(chǎn)業(yè)政策使芯片制造業(yè)集中在亞洲國家,而美國目前正試圖通過《芯片法案》扭轉(zhuǎn)這一趨勢。這項(xiàng)立法旨在提高美國的技術(shù)自給自足能力。

美國認(rèn)為可以在十年內(nèi)開始生產(chǎn)和封裝最先進(jìn)的半導(dǎo)體。相比之下,NVIDIA的首席執(zhí)行官認(rèn)為這一目標(biāo)可能需要10年或20年的時間。

Intel CEO談中國半導(dǎo)體現(xiàn)狀:現(xiàn)有工具最多生產(chǎn)7nm芯片 落后10年

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標(biāo)簽: Intel 7nm

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