國外博主yeux1122的爆料指出，蘋果正在測試新的抗反射光學涂層技術，旨在減少鏡頭炫光和鬼影等偽影，以提升照片質量。

根據(jù)供應鏈消息，蘋果正在考慮在iPhone相機鏡頭制造工藝中引入新的原子層沉積（ALD）設備。

原子層沉積是一種基于連續(xù)使用氣相化學過程的薄膜沉積技術，通過將物質以單原子膜形式逐層鍍在襯底表面的方式實現(xiàn)。ALD是一種納米技術，可以以精確控制方式實現(xiàn)納米級超薄薄膜沉積。

具體到相機鏡頭方面，ALD工藝主要用于噴涂抗反射涂層，有助于減少攝影偽影。例如，當強光源如太陽直接照射鏡頭時，可能導致拍攝的圖像出現(xiàn)條紋和光暈，而ALD技術可以減少這些圖像失真現(xiàn)象。

此外，ALD應用材料還可以防止環(huán)境對相機鏡頭系統(tǒng)造成損害，同時不會影響傳感器有效捕捉光線的能力。

博文指出，蘋果計劃將該工藝應用于iPhone的Pro系列機型，可能會在iPhone 16 Pro系列或明年的iPhone 17 Pro系列上看到。

編輯點評：

iPhone用戶一直對光線反射所帶來的各種炫光和鬼影問題而頭痛，蘋果研發(fā)這一新技術有望改善照片質量，減少炫光和偽影，為用戶帶來更出色的拍攝體驗。

如果成功應用于iPhone上，將進一步鞏固蘋果在智能手機攝影領域的領先地位。