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開(kāi)發(fā)出替代光刻機(jī)芯片制造工具后!俄羅斯:2027年量產(chǎn)28nm芯片 2030年是14nm

來(lái)源:快科技 編輯:非小米 時(shí)間:2023-10-12 13:30人閱讀

10月12日消息,現(xiàn)在俄羅斯也是公布了自己的芯片發(fā)展路線,其要在2030年實(shí)現(xiàn)14nm國(guó)產(chǎn)芯片制造。

目前,俄羅斯微電子企業(yè)可以生產(chǎn)130nm制程的產(chǎn)品,但是這是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的。

按照俄羅斯的說(shuō)法,計(jì)劃到2026年實(shí)現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點(diǎn)工藝,2027年實(shí)現(xiàn)28nm本土芯片制造,到2030年實(shí)現(xiàn)14nm國(guó)產(chǎn)芯片制造,而到2030年需要投資約3.19萬(wàn)億盧布(384.3億美元)。

在這之前,據(jù)俄羅斯國(guó)際新聞通訊社報(bào)道,圣彼得堡理工大學(xué)的研究人員開(kāi)發(fā)出了一種“國(guó)產(chǎn)光刻復(fù)合體”,可用于蝕刻生產(chǎn)無(wú)掩模芯片,這將使“解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問(wèn)題”成為可能。

據(jù)介紹,其中一種工具的成本為500萬(wàn)盧布(當(dāng)前約36.3萬(wàn)元人民幣),另一種工具的成本未知。

據(jù)開(kāi)發(fā)人員稱,傳統(tǒng)光刻技術(shù)需要使用專門的掩膜板來(lái)獲取圖像。該裝置由專業(yè)軟件控制,可實(shí)現(xiàn)完全自動(dòng)化,隨后的另外一臺(tái)設(shè)備可直接用于形成納米結(jié)構(gòu),但也可以制作硅膜,例如用于艦載超壓傳感器。

開(kāi)發(fā)出替代光刻機(jī)芯片制造工具后!俄羅斯:2027年量產(chǎn)28nm芯片 2030年是14nm

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